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巴歇尔槽 巴歇尔污水计量槽
槽模拟图 2、将巴歇尔槽放入明渠中巴歇尔槽下游排放口有水位差,泄水畅通,如水位差不够,应垫高巴歇尔槽,增加水位差。保证巴歇槽前直段有1~3米的距离。3、加固巴歇尔槽 在巴歇尔槽左右用
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巴氏杀菌罐
专为各种流体产品做小规模巴氏杀菌设计,特适用与黏度较大和流动性不强的产品。 主要特点: 1、容量:5-500L 2、罐体采用食品级不锈钢,和产品接触的部件为316不锈钢 3、温度自动控制和调节
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臭氧/羟基自由基在线TOC分析仪
秀的高、低浓度TOC分析仪,适用于浓酸或工业盐含量达26%的难氧化样品。维护量小 STAR 的臭氧/羟基自由基氧化法为各种应用提供解决方案。该分析仪完全自动,带有一台微软视窗工业电脑和触摸屏
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巴氏硬度计
3、分辨率: 0.5HBa 4、示值误差:硬度范围42~52HBa ±2HBa 硬度范围84~88HBa ±1HBa 5
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MIRA PICO OCS 微量羟基硫化物分析仪
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FlashPasto瞬间巴氏杀菌装置
技术参数能力1 - 60 m3/h巴氏杀菌单位PU’s10 - 500工作压力0 - 25 bar保持时间根据客户要求定制巴氏杀菌温度110 - 165 °CCIP原位清洗温度高达 165
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高压均质机HC-8000系列
仪器简介:HC-2000/HC-5000/HC-8000/3A系列设备是美国MFIC公司生产的具有zl的有固定几何形状的交互容腔的高压均质机,其独特的设计可使物料获得很高的剪切力。HC系列
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MY110Y
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高压微射流纳米分散仪(高压均质机)M-110S
优异的效果。价格适中,性能优异,操作简便。 美国MFIC公司生产的Microfluidizer 系列高压微射流纳米分散设备(高压均质机)已被一些世界知名公司使用于研发、生产中,适用于乳液、分散液
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高压微射流纳米分散仪(高压均质机)M-140K
psi 2.最大流量为500ml/min (受物料特性的影响而有所差别) 3.喂料温度:-15--165℉(-25-- 75℃) 3. 电源要求:3Ph,380V,7.5HP(5.6KW) 4. 最小
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